紐約州投資10億美元NanoFab Reflection研究設施舉行封頂儀式

紐約州政府公告，州長Kathy Hochul宣布斥資10億美元研究設施NanoFab Reflection正式封頂，係奧爾巴尼奈米科技綜合園區(Albany NanoTech Complex)核心項目，標誌紐約州作為美國半導體產業領導者重要里程碑，將成為全美首座公有高數值孔徑極紫外光微影(High NA EUV Lithography)技術中心，具全球最先進晶片研發能力。

前開計畫將支持數百個新高科技就業，帶動90 億美元私人投資，推動擴大與大學、勞動力培訓和全球半導體企業合作。封頂儀式標誌NanoFab Reflection最後一根鋼樑安裝完成，彰顯計畫建設如期推進，預計明(2026)年底竣工。該設施佔地 31 萬平方英尺，包含 5萬平方英尺先進無塵室，將配置荷蘭艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光光刻設備，以製造更強大、更快速晶片滿足運算需求，同時提高晶片能源效率。

紐約州擁有全美發展最快半導體產業生態系，超過1,240億美元新產業投資，包括美光科技、格羅方德，以及愛德華真空、TTM、Menlo Micro與AMD等半導體供應鏈業者，刻推動更多晶片研發和製造業務回流美國，有助保障供應鏈安全、提升國家安全並維持競爭力。(資料來源：經濟部國際貿易署)